化学气相沉积系统（PECVD100）

2018-01-16 11:46:43

仪器名称	化学气相沉积系统	仪器型号	PECVD100
所属单位	中国科学技术大学	所属区域中心	合肥战略能源和物质科学大型仪器区域中心
制造商名称	Oxford instruments Plasma Technology	国别	英国
购置时间	2013/05/27	放置地点	科大西区特种实验楼群楼微纳米加工实验室
预约审核人		操作人员	荣皓,微纳中心
仪器工作状态	正常	预约形式	必须预约
预约类型	时间预约
仪器大类	工艺实验设备	仪器中类	工艺实验设备	仪器小类	加工工艺实验设备
仪器主要功能及描述	PECVD利用射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，等离子体促进气体系列化学反应，在样品表面形成固态薄膜。可用于微纳结构中抗腐蚀层和电子器件中SiOx，SiNx等绝缘层低温条件下的薄膜生长。
备注