星形结构/溅射薄膜沉积系统（多腔，PECVD、热丝、磁控 定制）

主要技术指标

多腔室系统,其中PECVD腔4个,磁控溅射腔1个，中转腔室一个，真空度1*10-7torr，加热室温至400℃。

主要功能/应用范围

完整的硅基薄膜电池制备工艺/系统。

服务内容

制备硅基薄膜材料、光伏器件、蒸镀电极

服务的典型成果

暂无

对外开放共享规定

1.开放权限。使用人是学生(包括研究生和本专科生)，须持借用报告经有关指导老师签字，经过实验室主任同意后方可使用；使用人是教师，要经过主管院长或实验室主任同意；使用人是外单位，要由该单位经办人凭单位公函，需经学院领导批准。2.使用者应提前一周向仪器负责人提出书面申请。3.使用规则。使用者必须接受实验室负责人关于仪器设备的使用方法、注意事项等有关内容的培训，使用者必须达到熟练使用的水平，在专人陪同下方能使用。实验室负责人还必须向使用人讲清相关的实验室的管理制度。4.爱护财产。实验室仪器设备是国家财产，是进行教学、科研的必要物质条件。使用者必须倍加爱护。进行实验必须按相关的操作规程进行操作。如有损坏，则按《仪器设备损坏丢失赔偿处理办法》进行处理。5.加强管理。实验室负责人应不定时的对开放的实验室进行巡视，以发现问题，及时纠正和处理。并督促实验人员做好仪器设备的使用记录。6.用完验收。使用者对实验室和其设备使用完毕后，必须接受实验室负责人的仪器设备状况的验收，验收合格后方能退出使用。7.获得的成果必须注明仪器使用情况

参考收费标准

暂无

仪器联系人：

刘海旭

联系电话：

0312-5079560

电子邮箱：

传　　真：