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微晶硅薄膜高速沉积系统(4室PECVD,8*10(-5)Pa 非标)

2017-12-15 10:30:34
微晶硅薄膜高速沉积系统 [型号:4室PECVD,8*10(-5)Pa 非标]

仪器名称:微晶硅薄膜高速沉积系统

仪器型号:4室PECVD,8*10(-5)Pa 非标

仪器类型:电子产品通用工艺实验设备

应用领域:物理学材料科学

所属单位:河北大学

仪器产地:中国

仪器价值:225.95万

仪器购买时间:2013-12-26

主要技术指标

4室PECVD,真空度≤8*10-5Pa

主要功能/应用范围

微晶/非晶硅基薄膜,硅基化合物薄膜等PECVD沉积

服务内容

暂无

服务的典型成果

暂无

对外开放共享规定

不共享

参考收费标准

暂无

共享仪器单位信息

仪器联系人:

刘海旭

联系电话:

0312-5079560

电子邮箱:

传  真:

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