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蒸发HF刻蚀系统(UETCH-SYS)

2018-01-16 11:46:48

仪器名称 蒸发HF刻蚀系统 仪器型号 UETCH-SYS
所属单位 中国科学技术大学 所属区域中心 合肥战略能源和物质科学大型仪器区域中心
制造商名称 SPTS Technologies 国别 美国
购置时间 2015/11/12 放置地点 科大西区特种楼群楼微纳米加工实验室
预约审核人 操作人员 荣皓,微纳中心
仪器工作状态 正常 预约形式 必须预约
预约类型 时间预约    
仪器大类 工艺实验设备 仪器中类 工艺实验设备 仪器小类 加工工艺实验设备
仪器主要功能及描述 通过无水乙醇的催化作用,HF气体与SiO2反应生成可挥发的产物SiF4和气态H2O,并通过真空排风抽走。整个反应过程不生成液态水,避免了液体对悬空微纳结构的粘连,从而可以成功释放悬空的微纳米结构。主要用于悬臂梁及其他悬空微纳米结构和SiO2牺牲层的释放刻蚀。
备注

仪器收费信息
序号 样品分类 分析项目 前处理标准名称 分析项目标准名称 对外服务价格
1 片状、薄膜 牺牲层释放 用户指定 用户指定 600

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