亚微米紫外曝光机（MA/BA6）

2018-01-16 11:46:44

仪器名称	亚微米紫外曝光机	仪器型号	MA/BA6
所属单位	中国科学技术大学	所属区域中心	合肥战略能源和物质科学大型仪器区域中心
制造商名称	SUSS MicroTec Lithography GmbH	国别	德国
购置时间	2014/04/02	放置地点	科大西区特种实验楼群楼微纳米加工实验室
预约审核人		操作人员	微纳中心,荣皓
仪器工作状态	正常	预约形式	必须预约
预约类型	时间预约
仪器大类	工艺实验设备	仪器中类	工艺实验设备	仪器小类	加工工艺实验设备
仪器主要功能及描述	SUSS MA/BA6是设计用于实验室研发，小批量生产的高分辨率光刻系统。该光刻机供了最好的基片适应性，可夹持不同厚度不同形状的晶片。同时标准尺寸基片最大直径为150mm。处理最大厚度可达6mm的晶片。SUSS MA/BA6提供了各种接触式曝光程序。X-和Y-向位移精度在0.1μm以下。使用400nm的宽带光源曝光波长在真空模式下分辨率为0.8μm。同时可以选用不同的对准装置，分离视场顶部对准显微镜或视频显微镜，BSA底面对准显微镜对准方式。是目前实验室光刻技术中最为常用和重要的光刻设备。
备注