仪器名称 | 高能冲击磁控溅射等离子体发生与成膜控制平台 | 仪器型号 | HiPIMS |
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所属单位 | 力学研究所 | 所属区域中心 | |||
制造商名称 | 研制 | 国别 | 中国 | ||
购置时间 | 2014/10/16 | 放置地点 | 2号楼213 | ||
预约审核人 | 操作人员 | 李光 | |||
仪器工作状态 | 正常 | 预约形式 | 可不预约 | ||
预约类型 | 时间预约 | ||||
仪器大类 | 工艺实验设备 | 仪器中类 | 工艺实验设备 | 仪器小类 | 材料工艺实验设备 |
仪器主要功能及描述 | 高能冲击磁控溅射(HiPIMS)等离子体发生与成膜控制平台,将国际上新出现HiPIMS与等离子体基离子注入沉积方法相结合,采用前者获得淹没性的高离化率金属等离子体,通过溅射脉冲和高压脉冲的波形匹配实现参与成膜粒子能量可控,形成一种新颖的成膜过程控制技术。利用HiPIMS技术,金属Ti的离化率可达80%。粒子能量超过100eV,通过调整高、低磁控电压脉冲的脉宽比例,HiPIMS耦合电源还可实现对离化率的有效调控。 该平台可开展多元及复杂体系涂层表面改性的应用研究。1)利用高能冲击磁控源,可以实现众多金属(含碳)元素的离子注入,可以在高精尖零件的摩擦磨损、表面防腐蚀等领域开展研究。2)针对目前我国严重依赖进口高端镀膜刀具,可开展TiN、TiAlSiN和TiCN等高质量薄膜的表面改性工业化应用研究。3)可在等离子复合表面改性方法、材料的复合表面改性等领域开展大量的研究,针对表面改性膜层服役性能问题,开展膜基界面领域的研究工作。 | ||||
备注 |
序号 | 样品分类 | 分析项目 | 前处理标准名称 | 分析项目标准名称 | 对外服务价格 |
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激光粒度仪(理化中心)(MASTERSIZER 2000)
激光粒度分析仪(生态)(Mastersizer 2000)
渗透检测装置(JX/FPI.ZHI)
多功能超声检测系统(UTEX320、OMNI-IX-UT4、Omniscan PA16/128 ECT4)
1-高温电子蠕变持久试验机(css-3905)
树木年轮分析仪(Lintab6高精度版)
液氮发生器(教场园区)(STRILING-2)
纳米压印机(Hex-1) (HEX-01)
磁控溅射镀膜仪(Acs-4000) (ACS-4000-C4)
纳米粒度和ZETA电位分析仪(纳米区域中心)(Zetasizer Nano ZS ZEN3600)
LB6411中子剂量率探测器德国伯托BERTHOLD
LB6500-4-H10剂量率探头德国伯托BERTHOLD
LB761低本底放射性测量仪德国伯托BERTHOLD
LB134剂量率监测器德国伯托BERTHOLD
LB2046便携式αβ测量仪德国伯托BERTHOLD
LB761低本底放射性测量仪德国伯托BERTHOLD
LB790低本底放射性测量仪德国伯托BERTHOLD
LB1343污染测量仪德国伯托BERTHOLD
LB147手脚衣物污染监测仪德国伯托BERTHOLD
LB124SCINT便携式污染测量仪德国伯托BERTHOLD