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高能冲击磁控溅射等离子体发生与成膜控制平台(HiPIMS)

2018-01-16 11:46:31

仪器名称 高能冲击磁控溅射等离子体发生与成膜控制平台 仪器型号 HiPIMS
所属单位 力学研究所 所属区域中心
制造商名称 研制 国别 中国
购置时间 2014/10/16 放置地点 2号楼213
预约审核人 操作人员 李光
仪器工作状态 正常 预约形式 可不预约
预约类型 时间预约    
仪器大类 工艺实验设备 仪器中类 工艺实验设备 仪器小类 材料工艺实验设备
仪器主要功能及描述 高能冲击磁控溅射(HiPIMS)等离子体发生与成膜控制平台,将国际上新出现HiPIMS与等离子体基离子注入沉积方法相结合,采用前者获得淹没性的高离化率金属等离子体,通过溅射脉冲和高压脉冲的波形匹配实现参与成膜粒子能量可控,形成一种新颖的成膜过程控制技术。利用HiPIMS技术,金属Ti的离化率可达80%。粒子能量超过100eV,通过调整高、低磁控电压脉冲的脉宽比例,HiPIMS耦合电源还可实现对离化率的有效调控。 该平台可开展多元及复杂体系涂层表面改性的应用研究。1)利用高能冲击磁控源,可以实现众多金属(含碳)元素的离子注入,可以在高精尖零件的摩擦磨损、表面防腐蚀等领域开展研究。2)针对目前我国严重依赖进口高端镀膜刀具,可开展TiN、TiAlSiN和TiCN等高质量薄膜的表面改性工业化应用研究。3)可在等离子复合表面改性方法、材料的复合表面改性等领域开展大量的研究,针对表面改性膜层服役性能问题,开展膜基界面领域的研究工作。
备注

仪器收费信息
序号 样品分类 分析项目 前处理标准名称 分析项目标准名称 对外服务价格

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