仿制药中有关物质研究(连载二)

　　杂质和辅料的定位

　　对于已知降解 杂质A和B，通常采用对照品法或相对保留时间法，前者需制备对照品并供日常检测用，后者简便易行，故推荐后者。检测制剂时有时会出现辅料峰，保留时间通常 较短，可采用“扣除主成分峰相对保留时间多少倍前的辅料峰”的办法;如辅料峰位于中间位置，则只能在质量标准中规定：取某辅料、配制成某浓度进样测定，该 辅料峰不计入的办法。

　　杂质定量法

　　由于杂质与主成分结构式不同、紫外吸收不同，故在同一波 长下采用峰面积代表含量时需引入校正因子。针对杂质A和B的校正因子，如文献报道值已翔实确凿，则可直接采用;如怀疑或不存在报道值，则采用液质联用仪或 其他检测手段，甄别出该两杂质结构式，随后从国外药典会或某实验室购买来测得该杂质校正因子;或通过自我合成制备 → 结构式确认→ 获得纯度值 → 测得校正因子。这里需提醒的是：无论何种途径获得的杂质对照品，纯度值无需很高，只要该值准确、误差范围以内即可。针对特有杂质E和F，也是遵循以上方法 获得校正因子后计算含量。通常，校正因子在0.9~1.1时可忽略，超出0.5~5.0时应考虑改变检测波长，如无法调节，应考虑采用杂质对照品法。

　　杂质限度的规定

　　由于杂质A和B是主成分降解杂质，故其限度值在既有标准应有规定，参照即可其他杂质无需再参照既有质量标准，可自行拟定为：其他最大单个未知杂质不得过 0.5%，其次单个未知杂质不得过0.2%，所有杂质不得过1.5%。针对五类改剂型的研发，当用药途径一致时，仍可参照该限度制订;若用药途径发生改 变，则应具体分析。

　　系统适用性试验

　　系统适用性试验除在方法开发时用到，在日常检测中也应被使用，从而保证即时的色谱条件可满足测定需要。英国药典在所有液相法检测有关物质时均有此项规定。通常可采用如下方法。

　　使用与主成分最难分离的杂质;

　　如知晓原料药合成中间体G是最紧邻主成分峰前的杂质，可将其拟定入系统适用性试验中，只要保证该杂质与主成分峰的分离，便可确保其他杂质的分离;

　　使用已知杂质对照品;

　　如采用对照品法测定杂质A，则可规定该杂质峰与主成分峰具有适当的分离度，以保证位于中间的杂质B与G能与主成分峰分开，而不能仅规定1.5的分离度。

　　图3. 系统适用性强破坏试验图谱(下/空白溶剂;上/未破坏的供试品溶液;中/氧化破坏试验：规定产生一主成分峰前的杂质峰，且分离度应符合规定)。

　　采用破坏试验

　　如主成分在某强破坏试验下较易产生杂质，且该杂质又在质量标准中有所规定限制，则可采用，如图3所示。不建议仅规定主成分峰柱效、拖尾因子等作法，这些参数无法直接表达出主成分与杂质的分离效果。

　　复方制剂的研究

　　研究思路同前，仍是主要关注降解新增杂质，来源可能为：各原料间相互作用、原料与辅料间相互作用、原辅料与包材间相互作用等。不同之处如下。

　　色谱系统

　　研究阶段，通过确定色谱柱型号加以区域性分离、明确各杂质归属后进行检测的方法最为常用，且当一套色谱系统难以将各主成分与杂质均分离时，可建立两套/多套 色谱系统进行测定。如色谱系统一测定主成分A及其杂质，色谱系统二测定主成分B与其杂质，并验证在该各自系统条件下彼此互不干扰。

　　根据研究结果制订质量标准

　　如经以上研究，所有杂质均未增加/变化，则可在质量标准中不予制订有关物质检查项，该思路对于氨基酸等大复方制剂更为适用。如仅主成分A的一个已知杂质不断增加，则质量标准中仅制订该杂质测定法与限度。

　　很多研究者由于未充分理解制剂质量标准仅关注降解杂质的理念，将所有杂质均订入了质量标准。不变化的杂质由于已在原料药/辅料中加以了制御，故制剂质量标准中便无需再控制。