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硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机(ICPRIE-180)(Oxford Plasmalab System100 ICP180)

2018-01-18 09:41:39

仪器名称 硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机(ICPRIE-180) 仪器型号 Oxford Plasmalab System100 ICP180
所属单位 国家纳米科学中心 所属区域中心 北京物质和纳米科学大型仪器区域中心
制造商名称 英国牛津仪器等离子技术公司 国别 英国
购置时间 2010/06/12 放置地点 西配楼
预约审核人 徐丽华 操作人员 徐丽华
仪器工作状态 正常 预约形式 必须预约
预约类型 时间预约    
仪器大类 工艺实验设备 仪器中类 工艺实验设备 仪器小类 加工工艺实验设备
仪器主要功能及描述
备注

仪器收费信息
序号 样品分类 分析项目 前处理标准名称 分析项目标准名称 对外服务价格
1 固态 刻蚀 用户指定 用户指定 800

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