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超高真空磁控溅镀膜与离子束清洗系统(*)

2017-12-15 11:01:53
超高真空磁控溅镀膜与离子束清洗系统 [型号:*]

仪器名称:超高真空磁控溅镀膜与离子束清洗系统

仪器型号:*

仪器类型:其他仪器

应用领域:物理学

所属单位:河北师范大学

仪器产地:中国

仪器价值:46万

仪器购买时间:2008-12-31

主要技术指标

真空10-5Pa,多靶

主要功能/应用范围

射频、磁控溅射制备金属及氧化物薄膜材料

服务内容

射频、磁控溅射制备金属及氧化物薄膜材料

服务的典型成果

Li-qian Qi, Ru-shuai Han, Li-hu Liu* and Hui-yuan Sun*,Preparation of porous HfO2 films by DC-sputtering and studies on their magnetic properties,Ceramics International

对外开放共享规定

按照学校有关规定执行

参考收费标准

按照学校有关规定执行

共享仪器单位信息

仪器联系人:

刘力虎

联系电话:

0311-80787300

电子邮箱:

传  真:

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