仪器名称:超高真空磁控溅镀膜与离子束清洗系统
仪器型号:*
仪器类型:其他仪器
应用领域:物理学
所属单位:河北师范大学
仪器产地:中国
仪器价值:46万
仪器购买时间:2008-12-31
主要技术指标
真空10-5Pa,多靶
主要功能/应用范围
射频、磁控溅射制备金属及氧化物薄膜材料
服务内容
射频、磁控溅射制备金属及氧化物薄膜材料
服务的典型成果
Li-qian Qi, Ru-shuai Han, Li-hu Liu* and Hui-yuan Sun*,Preparation of porous HfO2 films by DC-sputtering and studies on their magnetic properties,Ceramics International
对外开放共享规定
按照学校有关规定执行
参考收费标准
按照学校有关规定执行
共享仪器单位信息仪器联系人:
刘力虎
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