对靶磁控溅射镀膜设备（OTMS560）

主要技术指标

真空度10-4Pa；对靶

主要功能/应用范围

磁控溅射制备金属薄膜、电极

服务内容

磁控溅射制备金属薄膜、电极

服务的典型成果

Xue Hou, Hui-yuan Liu, Hui-yuan Sun*, Li-hu Liu*, Xiao-xuan Jia, Significant room-temperature ferromagnetism in pure porous ZnO films: The role of oxygen vacanies， Materials Science and Engineering B, 200 (2015) 22–27

对外开放共享规定

按学校有关规定执行

参考收费标准

按学校有关规定执行

仪器联系人：

刘力虎

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