脉冲激光溅射沉积与离子束清洗系统（PLD-450a）

主要技术指标

极限真空度6.0×10^(-5) Pa；基片最高温度 800℃±1℃；靶材转速5-60rad/min;基片转速5-60rad/min；激光入射点距离地面高度1200mm.

主要功能/应用范围

用于生长通常的无极和有机薄膜材料，尤其适用于其他制膜设备和方法难以制备的高熔点、多元素（特别是含有气体元素的多元素）和复杂层状结构的薄膜。同时还能进行相应的激光与物质相互作用和成膜过程的物理、化学等方面的基础研究。

服务内容

氧化物功能薄膜的生长。

服务的典型成果

无

对外开放共享规定

优先用于本校教学科研。

参考收费标准

校内100元/小时，校外300元/小时。

仪器联系人：

李壮志

联系电话：

0311-80787327

电子邮箱：

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