多功能离子注入与离子束溅射系统（IBAD-600 60KV）

主要技术指标

清洗源灯丝电源0～20 V20A 引出电源0～1.5KV50mA，溅射源灯丝电源0～20 V20A引出电源0～3KV100mA，气体源灯丝电源0～20 V20A 加速电源0～60KV30mA，金属源加速电源0～50KV30mA

主要功能/应用范围

设备主要功能：1.离子束清洗：对待处理工件或样品进行表面清洗。2.离子束溅射沉积：用低能溅射气体离子源实现溅射沉积薄膜。3.金属、气体离子注入，混合注入、单注入、反冲注入。4.离子束辅助/增强沉积：用中高能气体/金属离子束对溅射沉积薄膜实现离子束增强沉积。

服务内容

对待处理工件或样品进行表面清洗用低能溅射气体离子源实现溅射沉积薄膜用中高能气体/金属离子束对溅射沉积薄膜实现离子束增强沉积

服务的典型成果

对待处理工件或样品进行表面清洗用低能溅射气体离子源实现溅射沉积薄膜用中高能气体/金属离子束对溅射沉积薄膜实现离子束增强沉积

对外开放共享规定

按照学校制定的大型仪器设备对外开放共享管理办法进行对外开放。

参考收费标准

150/小时

仪器联系人：

马丽

联系电话：

0311-80787328

电子邮箱：

传　　真：