![磁控溅射系统 [型号:JGP-560]](http://www.so17.cc/d/file/2017/7d918704b4565e495324a5939b8c13dd.jpg)
仪器名称：磁控溅射系统
仪器型号：JGP-560
仪器类型：其他
应用领域：物理学
所属单位：河北北方学院
仪器产地：中国
仪器价值：143.4万
仪器购买时间：2010-11-20
主要技术指标
JGP-560，真空室尺寸：梨型真空室，真空系统配置：分子泵、机械泵、闸板阀，极限压力：≤2.0x10-5Pa (经烘烤除气后) ，恢复真空时间：40分钟可达到6.6x10-4Pa (系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气)，样品尺寸：Ф65mm，可放置4片，加热基片加热最高温度：500°C±1°C 。
主要功能/应用范围
用于单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备，广泛的应用于高等院校、科研院所的薄膜材料科研。
服务内容
用于开展ZnO等薄膜的实验制备
服务的典型成果
无
对外开放共享规定
科研合作共享
参考收费标准
不收费
共享仪器单位信息仪器联系人：
王延峰
联系电话：
0313-4029189
电子邮箱：
传 真：
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