磁控溅射离子束刻蚀系统（离子束功率密度0.05--0.1W/cm2 JS2S-60L）

主要技术指标

离子束功率密度0.05--0.1W/cm2；直流磁控溅射功率200W

主要功能/应用范围

薄膜生长；薄膜刻蚀

服务内容

金属薄膜生长；薄膜刻蚀。

服务的典型成果

X., Yan, Y. Li, J. Zhao, Y. Li, G. Bai, S. Zhu.Applied Physics Letters, 2016.108(3), 28-1849.

对外开放共享规定

1.开放权限。使用人是学生(包括研究生和本专科生)，须持借用报告经有关指导老师签字，经过实验室主任同意后方可使用；使用人是教师，要经过主管院长或实验室主任同意；使用人是外单位，要由该单位经办人凭单位公函，需经学院领导批准。2.使用规则。使用者必须接受实验室负责人关于仪器设备的使用方法、注意事项等有关内容的培训，使用者必须达到熟练使用的水平，在专人陪同下方能使用。实验室负责人还必须向使用人讲清相关的实验室的管理制度。3.爱护财产。实验室仪器设备是国家财产，是进行教学、科研的必要物质条件。使用者必须倍加爱护。进行实验必须按相关的操作规程进行操作。如有损坏，则按《仪器设备损坏丢失赔偿处理办法》进行处理。4.加强管理。实验室负责人应不定时的对开放的实验室进行巡视，以发现问题，及时纠正和处理。并督促实验人员做好仪器设备的使用记录。5.用完验收。使用者对实验室和其设备使用完毕后，必须接受实验室负责人的仪器设备状况的验收，验收合格后方能退出使用。

参考收费标准

自测 500元/小时委托 600元/小时

仪器联系人：

闫小兵

联系电话：

0312-5079366

电子邮箱：

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