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等离子增强化学气相沉积系统(三室阵列式)

2017-12-15 10:18:25
等离子增强化学气相沉积系统 [型号:三室阵列式]

仪器名称:等离子增强化学气相沉积系统

仪器型号:三室阵列式

仪器类型:半导体集成电路工艺实验设备

应用领域:电子与通信技术

所属单位:河北大学

仪器产地:中国

仪器价值:57.86万

仪器购买时间:2012-12-13

主要技术指标

三室阵列式,室温-350℃,常压-10-4Pa

主要功能/应用范围

沉积硅薄膜

服务内容

沉积硅薄膜1.对使用者进行仪器设备的使用方法、注意事项等的培训,使用者必须达到熟练使用的水平方能开放独立使用;2.可协助使用者进行实验;3.对仪器设备进行日常维护维修,保证仪器的正常运行。

服务的典型成果

对外开放共享规定

专人负责设备使用,不能由外人操作

参考收费标准

自测 450元/小时委托 600元/小时

共享仪器单位信息

仪器联系人:

马蕾

联系电话:

0312-5079368

电子邮箱:

传  真:

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