仪器名称:低压化学气相淀积设备
仪器型号:定制
仪器类型:半导体集成电路工艺实验设备
应用领域:材料科学
所属单位:河北大学
仪器产地:中国
仪器价值:48万
仪器购买时间:2013-12-13
主要技术指标
1.衬底要求:玻璃15cm×15cm2.腔体本底真空:<6×10-2Pa3.反应腔体电阻丝加热温度为300℃。 4. 抽气速率:从大气状态下开始抽气在30分钟内,系统真空度≤ 5×10-2Pa。
主要功能/应用范围
该设备能在低压的条件下生长出高透过率、高电子传导性和高雾度的氧化锌薄膜。
服务内容
暂无
服务的典型成果
暂无
对外开放共享规定
不共享
参考收费标准
暂无
共享仪器单位信息仪器联系人:
朱红兵
联系电话:
18632210074
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