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低压化学气相淀积设备(定制)

2017-12-15 09:46:38
低压化学气相淀积设备 [型号:定制]

仪器名称:低压化学气相淀积设备

仪器型号:定制

仪器类型:半导体集成电路工艺实验设备

应用领域:材料科学

所属单位:河北大学

仪器产地:中国

仪器价值:48万

仪器购买时间:2013-12-13

主要技术指标

1.衬底要求:玻璃15cm×15cm2.腔体本底真空:<6×10-2Pa3.反应腔体电阻丝加热温度为300℃。 4. 抽气速率:从大气状态下开始抽气在30分钟内,系统真空度≤ 5×10-2Pa。

主要功能/应用范围

该设备能在低压的条件下生长出高透过率、高电子传导性和高雾度的氧化锌薄膜。

服务内容

暂无

服务的典型成果

暂无

对外开放共享规定

不共享

参考收费标准

暂无

共享仪器单位信息

仪器联系人:

朱红兵

联系电话:

18632210074

电子邮箱:

传  真:

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